Корзина
49 отзывов
Научное, производственное, лабораторное оборудование
+375 29 6404126

Вертикальная печь химического осаждения из газовой фазы (CVD/ХГО для осаждения С) Theseus SCI TS-VCF-1161

  Вертикальная печь химического осаждения из газовой фазы (CVD/ХГО для осаждения С) Theseus SCI TS-VCF-1161
Под заказ

Цену уточняйте

Написать
  • +375 показать номер +375296404126
  • Контакты
    • Телефон:
      +375296404126
    • Контактное лицо:
      Дежурный специалист
    • Адрес:
      ул. Калинина, 7б, Минск, Беларусь
  • Производитель и гарантия
  • Условия возврата и обмена

Печь химического осаждения из газовой фазы (осаждение углерода) предназначена для изотермической обработки CVD / CVI на поверхности углеродных материалов или их подложки углеводородным газом (например, С3Н8 и др.) в качестве источника углерода.

 

Технические особенности

  • Конструкция печи с разным числом зон нагрева, с хорошей однородностью температуры.
  • С использованием самой передовой технологии управления можно точно контролировать поток и давление MTS. Поток осаждения является стабильным, давление колеблется в узком диапазоне.
  • Используется новейшая конструкция коррозионностойких вакуумных насосов, которая увеличивает время их работы и гарантирует низкие эксплуатационные расходы.
  • Имеется особая камера осаждения с высокой герметичностью и защитой от загрязнения.
  • Используются несколько каналов осаждения газа, без застойных зон, с хорошим эффектом осаждения.
  • Имеется функция удаления смол, золы, пыли, твердых частиц и органики, выделяющиеся во время процесса осаждения.

 

Варианты комплектации печи химического осаждения

  • Двери печи: винтовой подъем /гидравлический подъем/ручной подъем; ручное запирание/автоматический кольцевой затвор.
  • Корпус печи: полностью из углеродистой стали/внутренняя поверхность из нержавеющей стали/целиком из нержавеющей стали
  • Камера вертикальных вакуумных трубчатых печей: мягкий углеродный войлок/мягкий графитовый войлок/жесткий композитный войлок /CFC
  • Нагреватель, муфель: HIP-прессованный графит/прессованный графит высокой чистоты, высокой прочности и высокой плотности/ графит мелких размеров
  • Пневматическая система: объемный расходомер/масс-расходомер, ручной/автоматический клапан, импортная/китайская марка
  • Вакуумный насос и вакуумметр: импортный/китайский
  • HMI (интерфейс): аналоговый экран/сенсорный экран/промышленный компьютер
  • PLC:  OMRON/SIEMENS
  • Контроллер температуры печи химического осаждения: SHIMADEN/ EUROTHERM
  • Термопара: C тип/ S тип/ K тип/ N тип
  • Регистратор: безбумажный/ бумажный, импортная/китайская марка
  • Электрические элементы: CHINT/SCHNEIDER/ SIEMENS

 

Параметры вертикальной печи химического осаждения из газовой фазы

Модели/параметры

TS-VCF-1161 -0305

TS-VCF-1161 -0508

TS-VCF-1161 -0812

TS-VCF-1161 -1015

TS-VCF-1161 -1218

TS-VCF-1161 -1520

Размер рабочей зоны Д×В (мм)

Φ300×500

Φ500×800

Φ800×1200

Φ1000×1500

Φ1200×1800

Φ1500×2000

Нагрузка (кг)

50

150

500

1000

2000

3000

Макс. температура (°С)

1500

1500

1500

1500

1500

1500

Однородность температуры (°С)

±5

±5

±7.5

±7.5

±10

±10

(kW) Мощность нагрева (кВт)

45

90

180

300

420

540

Предельный вакуум (Па)

20

20

20

20

20

20

Скорость увеличения давления (Па/ч)

0.67

0.67

0.67

0.67

0.67

0.67

Вышеуказанные характеристики могут изменяться согласно технологическим требованиям заказчика, они не являются стандартами для приёма, подробные характеристики будут подтверждены в техническом предложении или контракте.

 

Характеристики
Основные атрибуты
Страна производитель Китай
Производитель   Theseus Lab
Информация для заказа
  • Цена: Цену уточняйте