Корзина
E-MAIL: marketing@theseuslab.cz
+375 17 2374211

Высокотемпературная печь для отжига Centrotherm SiC и GaN Activator 150

  Высокотемпературная печь для отжига Centrotherm SiC и GaN Activator 150
Под заказ

Цену уточняйте

Написать
  • +375 показать номер +375296404126
  • +375172374211 доб. 418
  • Контакты
    • Телефон:
      +375296404126
      +375172374211 доб. 418,
    • Контактное лицо:
      Дежурный специалист
    • Адрес:
      Вацлавске намести 808/66, Нове Место, 110 00 Прага 1, Прага, Чехия
  • Производитель и гарантия
  • Условия возврата и обмена

Описание:

  • высокий уровень активации
  • минимальная шероховатость поверхности
  • максимальная температура 1850°C
  • малая занимаемая площадь (1,8м2)
  • нагрев до 250 К/мин
  • одновременная обработка 2',3',4',6' пластин
  • до 50 одновременно обрабатываемых 6' пластин
  • вакуум <10-3мбар
  • возможность объединения нескольких установок в линию

Высокотемпературная печь Activator 150 компании Centrotherm, была разработана для отжига после имплантации карбид- кремниевых (SiC) и нитрид –галлиевых (GaN) пластин. Уникальный дизайн технологического канала и нагревательной системы позволяет  достичь температуры  технологического процесса до 1850°C.

Разработка компанией  Centrotherm нового поколения печей для обработки SiC была вызвана потребностью обработки развивающегося производства  6' SiC пластин. Высокотемпературная печь Activator 150-5 была специально разработана для нужд научно-исследовательских и опытно-конструкторских разработок (НИОКР), в то время как  Activator 150-50 - для крупносерийного производства.

Высокотемпературная печь Activator 150 предлагает широкий спектр возможностей по технологической обработки SiC и GaN – пластин, разрешая оптимизацию и адаптирование процесса отжига для  ионно – легированных пластин ( SiC со структурой 3C, 4H, 6H). Это позволяет достичь наивысшей возможной степени активации пластин и их минимальной шероховатости.

Новый кремниевый барботёр (опция) используется для получения неизменных результатов обработки пластин, при использовании силана (SiH4) в процессе обработки. Высокотемпературная печь Activator 150 способна обрабатывать как структурированные пластины, так и пластины с защитным покрытием и без него. Высотехнологичный реактор был разработан для обеспечения высокой эффективности, уменьшения занимаемой площади и снижения стоимости эксплуатации, предлагая высочайшую технологическую гибкость.

 Описание: http://www.ostec-micro.ru/uploads/150.gif

 

 

АСМ изображение легированного образца после отжига при 1650 °C 

 Описание: http://www.ostec-micro.ru/uploads/150.jpg

 Обработка SiC и GaN пластин диаметром до 6'

 

Опции

  • Загрузочный шлюз
  • Регулировка давления (1-25мбар)
  • Кремневый барботёр
  • Роботизированная система транспортировки пластин
  • Профилирование термопар

Высокотемпературная печь Activator 150

 Модель

Activator 150-5

Activator 150-50

Размеры и количество одновременно обрабатываемых пластин

5(15) х 2', 10 x 3', 5 x 4', 5 x 6'

40(120) х 2', 40 x 3', 50 x 4', 50 x 6' 

Нагревательная система

резистивный нагрев

резистивный нагрев

Технологические газы

H2, He, SiH4, C3H8, C2H4, Ar

H2, He, SiH4, C3H8, C2H4, Ar

Размеры (ДхГхВ)

2260х1463х2500мм

2260х1463х2500мм

Потребляемая мощность

максимум 25кВт

максимум 45кВт

Источник питания

400В, 40А(3ф), 50Гц

400В, 70А(3ф), 50Гц

Сухой воздух

6000-10000Па

6000-10000Па

Водяное охлаждение

25л/мин

25л/мин

Вытяжка

400м3/мин

400м3/мин

 

Типовое применение

  • Высокотемпературный отжиг после процесса имплантации
  • Обработка поверхности карбида кремния (SiC) (например, карбонизация)
  • Отжиг нитрида галлия(GaN)

 

 

Характеристики
Основные
Производитель   Centrotherm
Страна производитель Германия
Информация для заказа
  • Цена: Цену уточняйте
Отзывы о товаре