Корзина
47 отзывов
Научное, производственное, лабораторное оборудование
+375 29 6404126

Система магнетронного распыления SemiTEq STE MS150

  Система магнетронного распыления SemiTEq STE MS150
Под заказ

Цену уточняйте

Написать
  • +375 показать номер +375296404126
  • Контакты
    • Телефон:
      +375296404126
    • Контактное лицо:
      Дежурный специалист
    • Адрес:
      ул. Калинина, 7б, Минск, Беларусь
  • Производитель и гарантия
  • Условия возврата и обмена

Описание:

  • использование в качестве многофункциональной установки вакуумного осаждения с различными источниками для проведения исследовательских процессов;
  • использование для магнетронного осаждения многокомпонентных материалов из 2-3 магнетронов одновременно;
  • установка оптимально сконфигурирована для осаждения новых материалов и сплавов с контролем зоны роста.

Установка STE MS105 специально разработана для проведения процессов осаждения покрытий в вакууме методом магнетронного распыления. Благодаря гибкой конфигурации и специально разработанной конструкции нагревателя установка STE MS105 позволяет проводить процессы напыления плёнок металлов, магнитных материалов и многокомпонентных оксидов при температуре на подложке до 900оС, используя магнетронные мишени в качестве источников материалов.

Особенности конструкции

Установка выполнена в виде отдельно стоящей системы с вынесенным насосом предварительной откачки.
Конструкция установки позволяет произвести монтаж через стену чистого помещения, при этом в чистой комнате располагается интерфейсный модуль системы и шлюз загрузки/выгрузки держателей образцов.

Доступны следующие версии манипулятора держателя образца:

  • размер подложки– 150 мм;
  • вращение подложкодержателя со скоростью до 0-50 об/мин в процессе напыления;
  • револьверное вращение с определением места позиции под конкретный источник материала (опция);
  • вращение подложкодержателя с нагревом до 900оС в коррозионно-стойком исполнении;
  • механическая передача образца посредством манипулятора шлюза (опция);

Возможна подача следующих видов смещения на обрабатываемые образцы:

  • постоянное смещение любой полярности;
  • ВЧ смещение 13,56 МГц с мощностью генератора до 600 Вт;
  • переменное смещение с частотой до 1 МГц и мощностью генератора до 400 Вт.

Особенности конструкции реактора:

  • два магнетронных испарителя с диаметром мишеней 76,2 мм (возможно одновременное использование до трёх испарителей, опция );
  • мощность источника DC=2 кВт либо RF=0.75 кВт по выбору Заказчика, испаритель оснащен комплектом электроники;
  • возможность использования следующих процессных газов: Ar, H2 , O2 , N2 ;
  • магнетронные источники располагаются на гибком кронштейне и могут быть сфокусированы в одну точку для обеспечения режима со-осаждения;
  • все источники напыления имеют индивидуальные заслонки;

 

Технические параметры

Предельное остаточное давление в реакторе

5х10-7 мм.рт.ст.

Время достижение предпроцессного вакуума 5х10-6 мм.рт.ст. после вскрытия реактора на атмосферу при использовании ТМН 550 л/сек и спирального насоса 35 м3/час, не более

30 мин

Рекомендуемое давление в режиме работы магнетронов

0,01 мм.рт.ст.

Мощность магнетронного испарителя с размером мишени 3", кВт

Постоянное смещение

ВЧ смещение

2

0.75

Диаметр поверхности, на которую производится напыление

3”

Максимальный диаметр образца при опциональном узле нагрева до 900оС

150 мм

ВЧ смещение на образец, МГц

13,56

Переменное смещение на образец, МГц

1

Характеристики
Основные
Производитель   SemiTEq
Страна производитель Россия
Информация для заказа
  • Цена: Цену уточняйте