Продавец Theseus Lab | Научное, производственное, лабораторное оборудование | Поставки по Беларуси развивает свой бизнес на Deal.by 5 лет.
Знак PRO означает, что продавец пользуется одним из платных пакетов услуг Deal.by с расширенными функциональными возможностями.
Сравнить возможности действующих пакетов
Начать продавать на Deal.by
Корзина
55 отзывов
+375 (29) 640-41-26
Научное, производственное, лабораторное оборудование
Наличие документов
Знак Наличие документов означает, что компания загрузила свидетельство о государственной регистрации для подтверждения своего юридического статуса компании или индивидуального предпринимателя.
Корзина
Установки нанесения и проявления фоторезиста серии EVG®101

Установки нанесения и проявления фоторезиста серии EVG®101

  • Под заказ

Цену уточняйте

+375 (29) 640-41-26
Описание
Характеристики
Информация для заказа

Описание:

  • Размеры пластин/.подложек: 50 - 200 мм пластины или подложки до 150х150 мм (EVG®101, EVG®120), 100 - 300 мм пластины или подложки до 9"х9" (EVG®150)
  • Привод центрифуги нанесения/проявления фоторезиста: 0 – 10 000 об/мин, ускорение 0 –  40000 об/мин/сек
  • 4 линии для подачи различных типов фоторезиста на одной установке

Системы серии EVG®100 сконструированы специально для нужд мелкосерийного и опытно-конструкторского производства. Эти системы покрывают широкий спектр методов нанесения фоторезистивных покрытий для МЭМС и других полупроводниковых технологий.

Установки удовлетворяют всем требованиям технологий нанесения тонкопленочных и толстопленочных резистивных покрытий и могут быть оснащены дополнительными опциями для обеспечения высокой гибкости и универсальности.

Конструкция систем основана на узлах автоматической установки нанесения фоторезиста EVG®150 в конфигурации с одной рабочей камерой. Таким образом, все технологические процессы, проводимые на установках EVG®101, могут с легкостью быть перенесены на полностью автоматические системы EVG®150. К тому же, система EVG®101 может быть оснащена центрифугой нанесения фоторезиста и/или узлом нанесения фоторезиста методом распыления, а так же модулем проявления.

Полуавтоматическая система нанесения/проявления фоторезиста EVG®101 

Автоматическая система с модулями нанесения, проявления и сушки фоторезиста EVG®150

 

  • Нанесение фоторезиста/реактивов центрифугой, распылением. Подача фоторезиста в центр пластины, распределение по определенной области, нанесение на кромку пластины для защиты от подтравливания
  • Широкий диапазон толщин получаемого покрытия от 100 нм до 100 мкм
  • Материал камеры PTFE
  • Модуль сушки/термодубления:
    • Температура: 50 - 150°C
    • Высокотемпературный сушильный модуль: 50 - 350°C
    • Управление: ПО, ПИД-регулятор температуры
    • Скорость нагрева: <240 сек до 100°C
    • Равномерность распределения температуры: ±0.5°C при 100°C
    • Микрозазорные штифты: Стандартно - фиксированное расстояние или контакт, опция - задание микрозазоров 0-5000 мкм
  • Азотное сопло для распыления проявителя
  • Работа по заданным наборам параметров, управление с ПК

 http://www.ostec-micro.ru/uploads/evg_p1.jpg

http://www.ostec-micro.ru/uploads/evg_p2.jpg 

100 мкм структуры покрытые резистом SU-8 на установках серии EVG®101

Основные
Производитель  EVG
Дополнительный сервис  Установка
Страна производительАвстрия
  • Цена: Цену уточняйте
Установки нанесения и проявления фоторезиста серии EVG®101Установки нанесения и проявления фоторезиста серии EVG®101
Под заказ
Цену уточняйте
+375 (29) 640-41-26