Продавец Theseus Lab | Научное, производственное, лабораторное оборудование | Поставки по Беларуси развивает свой бизнес на Deal.by 5 лет.
Знак PRO означает, что продавец пользуется одним из платных пакетов услуг Deal.by с расширенными функциональными возможностями.
Сравнить возможности действующих пакетов
Начать продавать на Deal.by
Корзина
55 отзывов
+375 (29) 640-41-26
Научное, производственное, лабораторное оборудование
Наличие документов
Знак Наличие документов означает, что компания загрузила свидетельство о государственной регистрации для подтверждения своего юридического статуса компании или индивидуального предпринимателя.
Корзина
Система совмещения и экспонирования фотошаблона с пластиной EVG® 610

Система совмещения и экспонирования фотошаблона с пластиной EVG® 610

  • Под заказ

Цену уточняйте

+375 (29) 640-41-26
Описание
Характеристики
Информация для заказа

Описание:

EVG ® 610 является универсальным оборудованием для научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ, может обрабатывать небольшие подложки и пластины размером до 200 мм. Инструмент поддерживает множество стандартных литографических процессов, таких как вакуумный контакт, мягкое и жесткое экспонирование и экспонирование с микрозазором, а также другие специфические применения: совмещение фотошаблона, наноимпринтную литографию и микро контактную печать.

Система позволяет быстрое переоснащение со временем переналадки менее чем за одну минуту, что делает ее идеальной для работы университетов, НИОКРов и мелкосерийного производства.

 

Технические характеристики

Наименование

EVG 610

Подложка/пластины размеры (мм)

до 200 мм, 150 мм х 150 мм, толщиной до 10 мм

Метод совмещения

Верхняя сторона CCD

до ± 0,5 мкм

Верхняя сторона с микроскопом

По желанию заказчика

Нижняя сторона

По желанию заказчика

 

Совмещение при ИК-подсветке

По желанию заказчика

 

Совмещение для процесса сварки

По желанию заказчика

 

Координатный стол

Проверка совмещения

По желанию заказчика

Микрометрические винты

 

Экспонирование

Режимы

Вакуумный контакт, мягкий, жесткий контакт, экспонирование с зазором.

Разрешение

<0,8 мкм в вакуумном контакте, ≥ 2 мкм при зазоре

Длина волны

350-450 нм (NUV, по умолчанию)

опционально: до 200 нм (DUV)

Дуговая ртутная лампа

350W, 500W

Наноимпринтная литография (NIL)

Жесткий штамп

Размер активной области отпечатка 1 "х 1", ≤ 50 нм структуры размера и точность совмещения до ± 0,1 мкм

Мягкий штамп

Активная область отпечатков. До 150 мм, ≤ 50 нм разрешение структуры

Основные
Производитель  EVG
Страна производительАвстрия
  • Цена: Цену уточняйте
Система совмещения и экспонирования фотошаблона с пластиной EVG® 610Система совмещения и экспонирования фотошаблона с пластиной EVG® 610
Под заказ
Цену уточняйте
+375 (29) 640-41-26