Продавец Theseus Lab | Научное, производственное, лабораторное оборудование | Поставки по Беларуси развивает свой бизнес на Deal.by 5 лет.
Знак PRO означает, что продавец пользуется одним из платных пакетов услуг Deal.by с расширенными функциональными возможностями.
Сравнить возможности действующих пакетов
Начать продавать на Deal.by
Корзина
55 отзывов
+375 (29) 640-41-26
Научное, производственное, лабораторное оборудование
Наличие документов
Знак Наличие документов означает, что компания загрузила свидетельство о государственной регистрации для подтверждения своего юридического статуса компании или индивидуального предпринимателя.
Корзина
Бесконтактная фотолитографическая система EVG PHABLE

Бесконтактная фотолитографическая система EVG PHABLE

  • Под заказ

Цену уточняйте

+375 (29) 640-41-26
Описание
Характеристики
Информация для заказа

Описание:

Бесконтактная, основанная на методе маскирования фотолитографическая установка EVG®PHABLE™, реализующая операцию экспонирования при производстве фотонных компонентов. Система обеспечивает высокое разрешение и экономичное микро- и наноструктурирование пассивных и активных компонентов, например, создает на полупроводниковых пластинах шаблонные структуры светодиодов.

Установка EVG PHABLE — первое полностью автоматическое производственное оборудование, реализующее технологию PHABLE™ (сокр. от photonics enabler — «помощник в области фотоники») швейцарской компании Eulitha AG.

Система EVG PHABLE сочетает низкую стоимость владения, легкость работы и возможности осуществления бесконтактной микрозазорной фотолитографии с субмикронным разрешением фотолитографических степперов для обеспечения экономичного автоматизированного мультиплицирования шаблонов фотонных компонентов на большие площади, что обеспечивает способность данной системы работать с сапфировыми подложками или повышать светоотдачу (и таким образом эффективность) светодиодных устройств. Метод сдвиговой фотолитографии, основанный на эффекте Талбота, — Displacement Talbot Lithography — позволяет производить структуры с размерами от 3 мкм до 200 нм без снижения глубины резкости и стыков, что может возникнуть при работе с другим оборудованием. В результате достигается возможноть формирования структур на подложках, достигающих 6 дюймов в диаметре, за один шаг экспозиции. Это позволяет поддерживать высокую производительность системы EVG PHABLE вне зависимости от габаритов полупроводниковой пластины, а также сохранять очень большие зазоры экспозиции (до нескольких сотен микрон) между маской и пластиной, таким образом избегая загрязнения маски, что свойственно данной технологии.

Система EVG PHABLE способна реализовывать как одномерные шаблоны (линии и зазоры), так и двухмерные, такие как шестиугольные и квадратные решетки. Таким образом, в системе нашли поддержку различные способы повышения светоотдачи светодиодов.

  • Метод, основанный на бесконтактной фотолитографии с маской.
  • Позволяет получать периодические нано- и микроструктуры.
  • Объединяет все преимущества фотолитографии, инфраструктур, фотомасок, фоторезистов и др.

 

Применение периодических структур

  • Микро и наноструктуры на сапфировых подложках (PSS) для светодиодов.
  • Структура поверхностных светодиодов (получение света).
  • Структуры ячеек солнечных панелей (фото электрика).
  • Антиотражающие покрытия.
  • Светодиоды с нано проводниками.
  • Биодатчики.
  • Дифракционные решетки.

 

Возможности EVG PHABLE

Настройки

Размеры структур

 

Нм

Мкм

Ламповый блок

Нано режим

Микродозы

Маска

Структуры и шаг нанометровых размеров

Структуры и шаг микрометровых размеров

Тестированные гексагональные структуры

Параметр

Значение

Толщина фоторезиста

0,5 мкм – 3,5 мкм

Диаметр отверстия/выступа

0,3 мкм – 2,0 мкм

Шаг

0,6 мкм – 3,0 мкм

Зазор экспонирования

50 мкм – 500 мкм

 

Производительность

Зазор при экспонировании

Обычно: 30 мкм – 600 мкм

Разрешение структур

Минимальный размер структур до 200 нм

Максимальный размер структур до 3 мкм

Производительность

50 подложек в час и более

Не зависит от размера подложки - экспонирование всей подложки.

 

Уникальные преимущества технологии

  • Литография Talbot БЕЗ ограничений, вызванных глубиной фокусировки.
  • Бесконтактная фотолитография.
  • Экспонирование по полной зоне – нет влияния шага.

 

Основные
Производитель  EVG
Страна производительАвстрия
  • Цена: Цену уточняйте
Бесконтактная фотолитографическая система EVG PHABLEБесконтактная фотолитографическая система EVG PHABLE
Под заказ
Цену уточняйте
+375 (29) 640-41-26