Новые системы совмещения и экспонирования фотошаблона с подложкой от компании EVG

Новая система IQ Aligner®NT сочетает современное оптическое и механическое оборудование, имеет высокоинтенсивную оптику для экспонирования, точность совмещения до 250 нм, точный контроль зазора экспонирования, а также быстродействующее оборудование для обработки подложек с пропускной способностью 200 подложек в час.

Кроме того, оборудование обладает множеством улучшенных возможностей для самых точных и гибких схем совмещения, например в системе используется микроскоп для полного охвата подложки  на 300 мм, конструкция, которого обеспечивает глобальное многоточечное совмещение, и перемещение фотошаблона по свободному полю.

Оптимизированное программное обеспечение, созданное для обеспечения удобства использования системы, дополняет тщательно разработанную концепцию системы.

Светодиоды нашли широкое применение во многих задачах из-за их низкого потребления энергии и длительного срока службы. Поэтому неудивительно, что компания EVG решила сделать данные преимущества доступными для клиентов, работающих в области литографии.

В результате компания EVG разработала новую высококачественную светодиодную экспонирующую оптику с высокой однородностью света, которая теперь предлагается для систем совмещения и экспонирования фотошаблона с подложкой, поддерживающих диаметры подложки до 200 мм.