Корзина
15 отзывов
E-MAIL: marketing@theseuslab.cz
+375 17 2374211

Электронно-лучевая и ионно-лучевая литография

Электронно-лучевая и ионно-лучевая литография применяются в микроэлектронике (производство электронных микросхем) как в серийном производстве, так и в ведущих научно-исследовательских центрах. Различия между электронной и ионной литографией обусловлены большей массой иона по сравнению с массой электрона и тем, что ион является многоэлектронной системой. 

Оборудование литографии используется в микроэлектронике для достижения самых передовых результатов в нанолитографии и изготовлении фотошаблонов для R&D, в сфере сложных полупроводниковых структур и приборов, для создания оптических структур для элементов защиты от подделок, серийное производство полупроводниковых приборов и пр.

Предлагаем оборудование для электронно-лучевой и ионно-лучевой литографии:

  • установки лазерной литографии,
  • ионно-лучевые литографы,
  • электронно-лучевые литографы,
  • электронно-литографические приставки для микроскопа,
  • установки для ионной имплантации,
  • и  др.
Сортировка: в виде галереи в виде списка
товаров на странице:
social-icon
Loading...