Плазменная обработка
В установках плазменной обработки полностью реализованы все современные особенности процессов контролируемого плазмохимического травления полупроводниковых, диэлектрических и металлических слоев.
Системы плазменной очистки используют для обработки корпусов кристаллов перед проведением процессов микросборки, разварки выводных контактов и герметизации, для удаления фоторезиста с пластин или подложек.